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中国光刻机八大金刚
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我国的光刻机产业起步于 1960 年代，109 厂与上海光学仪器厂协作研制成功我国第一台 65 型接触式光刻机。1978 年中科院半导体所开始研制 JK-1 型半自动接近式光刻机，1980 年研制成功。1981 年完成第二阶段工艺试验，同年上海光学机械厂的研制的 JKG-3 型光刻机通过鉴定与设计定型。第四十五所于 1985 年成功研制 BG-101 步进式光刻机，并通过了技术鉴定，性能指标接近美国 GCA 公司 4800DSW 系统的水平。同年，中国科学院上海光学精密机械研究所研制的扫描式投影光刻机通过鉴定。但在 80 年代后期与 90 年代，由于海外集成电路的强大竞争力，我国光刻机及相关技术进展缓慢，相关产品多止步于科研项目，缺乏产线量产验证。
2002年，上海微电子装备有限公司（SMEE）成立，并承担了 863 计划中的 100 纳米分辨率 Arf 光刻机项目。通过参与 863 计划与 02 专项，上海微电子掌握了光刻机多项关键技术，并于 2016 年推出用于 IC 前道制造的600 系列光刻机，工艺覆盖 90 纳米、110 纳米和 280 纳米，为浸没式光刻机的研发奠定了良好的基础。
作为中国国内唯一的光刻机整机厂商，上海微电子在光刻领域的布*较为完善，覆盖了集成电路前道制造光刻、后道封装光刻、6 寸及以下衬底光刻、面板光刻等多个领域。其中在后道封装领域，上海微电子已经占据了中国国内 80%，全球 40% 的市场份额。除服务集成电路产业外，上海微电子的光刻机也广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD 面板 MEMS、LED、PowerDevices 等制造领域。
SSX600系列步进扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术，以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术，可满足 IC 前道制造 90nm、110nm、280nm 关键层和非关键层的光刻工艺需求。该设备可用于 8 寸线或 12 寸线的大规模工业生产。
SSB500系列步进投影光刻机主要应用于 200mm/300mm集成电路先进封装领域，包括FlipChip、Fan-InWLP、Fan-OutWLP 和 2.5D/3D 等先进封装形式，可满足Bumping、RDL 和 TSV 等制程的晶圆级光刻工艺需求。
SSB300系列步进投影光刻机面向 6 英寸以下中小基底先进光刻应用领域，满足 HB-LED、MEMS 和 PowerDevices 等领域单面或双面光刻工艺需求。 SSB200 系列投影光刻机采用先进的投影光刻机平台技术，专用于 AM-OLED 和 LCD 显示屏 TFT 电路制造，可应用于 2.5 代～6 代的 TFT 显示屏量产线。该系列设备具备高分辨率、高套刻精度等特性，支持 6 英寸掩模。
以上海微电子为首的国内光刻机产业链已初具雏形，但除光刻机整机集成外，还包括光源、物镜与照明系统、双工件台、浸没系统等关键组成部分，与显影涂胶及量测检测的配套设备。在分工上，上海微电子负责光刻机设计总装，北京科益虹源生产光源系统，北京国望光学供应物镜投影系统，国科精密提供照明系统，浙江启尔机电提供浸没系统，华卓精科研发双工件台。美埃科技与苏大维格为国产光刻机提供空气净化器与光栅；炬光科技与福晶科技为 ASML 供应商，未来也有望参与光刻国产化。
一、 苏大维格：发力非 IC 光刻机与多种光学元件
苏大维格深耕微纳光学产业，通过研发积累和不断的收购扩张，已经建立了较为完善的微纳光学生产体系。公司业务涵盖上游光学制造设备与多种微纳光学产品；公司与多方合作设立研发创新中心，开展底层关键技术研究。公司整体布*分为四大事业群，产品包括多种光刻机、压印设备、光刻机光栅防伪材料、新型包装材料、导光板、导电膜等。运用于 AR 显示的光波导镜片等也正在研发当中。
苏大维格的设备产品，主要包括光刻设备和微纳光学装备两类，均系公司自主研发设计生产；其设备满足公司自身高端光学产品生产需要。苏大维格通过持续迭代与升级，逐步构建了模块化、可升级和快速配置的光刻机平台。
苏大维格的光刻机，为公司的产品与技术提供可靠的研发生产平台；亦为公司产品性能提升提供了坚实基础和有力保障，已经使用在纳米透镜、全息透镜、裸眼 3D 纳米导光板、光子晶体阵列、纳米光栅、动态衍射光学图形、纳米透镜阵列的制造中；通过微纳光学产品与上游制造装备的齐头并进协调发展，公司有望继续保持在相关设备领域的优势。
苏大维格的产品也包括反光材料与微纳光学产品。反光材料的成本中，化工原料占 40%，受大宗商品价格波动影响大；微纳光学产品中，导光板和导电膜产品用于面板和消费电子领域；包装与防伪材料，用于高端消费品包装和证件防伪领域。
2021到 2022 年的一系列事件，造成能源等大宗商品价格波动严重，下游客户开工意愿较低，拖累了反光材料的毛利率；同时疫情扰动导致消费增长乏力，包装材料、导光板、触控模组等产品的成长均不理想。叠加反光材料子公司资产减值，苏大维格 2022 年预计全年实现归母净利润-2.6 亿元至-3.6 亿元。随着疫情回归常态化防控与消费复苏，2023 年公司各类业务有望全面回升，实现扭亏为盈。
苏大维格在纳米光场调控 3D 显示、增强现实光波导 AR 镜片、等领域进行了前瞻性布*，并积极与相关产业方合作。在 AR/VR 领域，公司攻克了纳米波导光场镜片批量化关键技术，相关业务有望在未来实现较快增长。此外，在消费电子之外的汽车领域，公司开发了用于 AR-HUD 的大幅面光波导模组，具备超薄、大视场、远虚像视距的显示效果。目前，公司正推进相关技术的进一步研发，与下游头部企业对接 AR-HUD 的技术和产品应用。
苏大维格在光伏领域，积极拓展自身设备和产品技术的市场。随着光伏高效电池扩产落地，光伏电池用银需求将快速增长，银浆耗用量增大是限制光伏行业持续推进降本增效的痛点之一。苏大维格的光刻机，在铜电镀光伏的图案化工艺方面，有着广阔的发展潜力。铜电镀光伏技术的加速渗透，苏大维格也有望在相关领域实现突破。
二、茂莱光学：供应多种前道光刻机零件
茂莱光学专注于精密光学领域，是国内领先的工业级精密光学厂商。公司掌握抛光技术、镀膜技术、多棱镜胶合技术，部分工艺可实现纳米级精度；在半导体应用领域，公司的精密光学产品主要应用于半导体检测和光刻机中，根据弗若斯特沙利文的报告，2021年公司在全球半导体领域工业级精密光学市场的占有率为 3.0%。
半导体检测设备中的光学成像系统对半导体检测效果有关键影响，茂莱光学主要为半导体检测设备提供高精度的光学显微成像镜头及系统，产品具备更高分辨率、更大检测面积，能够较大地提高晶圆检测设备的缺陷甄别能力及测量通量。公司目前已与 Camtek、KLA 等全球知名半导体检测装备商建立合作。公司为光刻机光学系统提供用于匀光、中继照明模块的光学器件、投影物镜，以及用于工件台位移测量系统的棱镜组件，是光刻机实现光线均匀性与曝光成像的关键模块。茂莱光学的产品已应用于上海微电子等国产厂商的光刻机中，有望为光刻机国产化提供较好支撑。
三、芯源微：光刻机配套显影涂胶设备先行者
沈阳芯源微成立于 2002 年，由中科院沈阳自动化研究所发起，公司产品包括涂胶机、显影机、喷胶机、去胶机、湿法刻蚀机、单片清洗机。公司涂胶显影相关技术积累深厚，涂胶显影机 offline、I-line、KrF 设备全部实现批量销售并正在快速放量，并陆续获得中芯京城、上海华力、长江存储、合肥长鑫、武汉新芯、厦门士兰集科、上海积塔、株洲中车、青岛芯恩、中芯绍兴、中芯宁波、昆明京东方等大客户的订单。芯源微于 2022 年 11 月 30 正式推出浸没式 ArF 涂胶显影机，该产品具有高产能、高工艺能力、高洁净度、高扩展性和易维护性等优势。目前，该款机型已通过客户端验证，达到客户量产要求，成功打破国外垄断。
公司高额进行研发投入，2022 年前三季度累计研发投入 0.95 亿。此外，公司的新上海临港厂区已于 2022 年 8 月 5 日动工，用于生产前道 ArF 涂胶显影机。充足的研发支出和配套生产设施的建设有望保障高端 ArF 设备顺利投产，并尽快扩大 ArF 产品的工艺覆盖率，有力提升公司盈利能力。
四、精测电子：光刻涂胶显影后电路量测设备
武汉精测电子集团股份有限公司创立于 2006 年 4 月，公司于 2018年进军半导体设备领域，成立上海精测半导体技术有限公司。上海精测半导体所生产的 OCD(光学关键尺寸测量设备)与 CD-SEM（关键尺寸扫描电镜）可用于光刻显影涂胶后，电路图案的检查。公司的 OCD 设备已通过工艺验证并实现小批量出货。
五、盛美上海：开发显影涂胶设备，扩大产品工艺覆盖
盛美上海成立于 2005 年，公司集研发、设计、制造、销售于一体，主要产品包括半导体清洗设备、光刻配套显影涂胶设备、半导体电镀设备和先进封装湿法设备等。盛美上海于 2013 年开发了首个封装涂胶显影机，并于 2014 年交付了给客户。2022 年 12 月 29 日，公司的 ArF 涂胶显影 Track 设备UltraLITH 成功出机，向中国国内客户交付。该设备应用于 300 毫米晶圆产线，能实现与光刻机的联机工作，可 提供均匀的下降气流、高速稳定的机械手处理以及强大的软件系统。该设备共有 4 个适用于 12 英寸晶圆的装载口，8 个涂胶腔体、8 个显影腔体可实现精确控温和低破损，并支持 12 个涂胶腔体及 12 个显影腔体拓展。设备每小时晶圆产能可达 300 片，增配后能达到每小时 400 片以上的产能。
六、美埃科技：有力保证光刻净化环境
美埃科技自成立之日起，即专注于电子洁净室行业，在长期的运营和研发中积累了大量半导体领域的相关经验。公司所生产的风机过滤单元（FFU）、高效过滤器、超高效过滤器、化学过滤器等产品，用于维护中芯国际较高端的 14 与 28 纳米产线厂房的空气洁净度。上海微电子装备公司开发国内首台 ArFi 光刻设备，机台内洁净环境等级需要达到国际最高标准（ISOClass1 级）。美埃科技提供了光刻机所需的 EFU（超薄型设备端自带风机过滤机组）及 ULPA（超高效过滤器）等产品，并通过了相关验收。
七、福晶科技：激光晶体打入ASML 供应链
福晶科技于 1990 年，由中国科学院福建物质结构研究所设立，2008 年 3 月于深交所上市。公司是全球知名的 LBO 晶体、BBO 晶体、Nd:YVO4 晶体、磁光晶体、精密及超精密光学元件、高功率光隔离器、声光及电光器件的龙头厂商，产品广泛应用于激光、光通讯、半导体、AR/VR、生命科学、无人驾驶、检测分析仪器等诸多工业领域。
经过三十余年的发展，公司在晶体生长、光学加工、器件合成、市场营销、技术服务、业务管理等方面积累了丰富的经验，成为业内少数提供“晶体+光学元件+ 激光器件”一站式综合服务的供应商。公司设立了研发中心，注重研发投入、技术开发、人才培养和协同创新。公司自主开发了晶体生长炉，拥有国际先进的镀膜和检测设备，建立了“原料合成－晶体生长－定向－切割－粗磨－抛光－镀膜”完整的加工链。
八、炬光科技：光刻机电子及光学元件供应商
炬光科技成立于 2007 年 9 月，目前拥有应用于光刻、逻辑芯片、功率器件及存储芯片退火的光学元器件和激光模块与系统。其中，公司生产的光场匀化器，能实现对激光光束的高度匀化，满足光刻机等高端应用需求，已供应荷兰 ASML 的核心光学系统供应商。公司下游光刻市场的需求增长强劲，2022 年上半年，炬光科技泛半导体激光器产品已达 1.27 亿元，较上年同期 0.94 亿元有较大增长。公司为光刻机等半导体和面板设备制造商等提供核心元器件，产品应用于先进制造、医疗健康、科学研究、汽车应用、消费电子五大领域。
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我想研发光刻机，大学学什么专业
发光刻机研发涉及多个专业，光学、机械加工、电子电路、化学等。光刻机涉及到的知识有：光学、机械加工、电子电路、化学等多个学科知识。光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制，所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。扩展资料光刻机的发展光刻机：光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”，制造和维护均需要高度的光学和电子工业基础。光刻机工作原理跟照相机类似，不过它的底片是涂满光刻胶的硅片，各种电路图案经激光缩微投影曝光到光刻胶上，光刻胶的曝光部分与硅片进行反应，将其永久刻在硅片上，这就是芯片生产最重要的步骤。由于制造光刻机具有极高的技术和资金门槛，目前全球光刻机市场基本被荷兰的阿斯麦、日本的尼康和佳能三家企业垄断。
全球首台！苏大维格投入运行大型紫外3D直写光刻设备
来源：苏大维格
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苏大维格是光刻机龙头吗？
苏大维格作为一家光刻机生产厂商，在国内市场上一直处于领先地位。该公司的产品线覆盖了从微米级别到纳米级别的多种应用领域，包括半导体芯片、MEMS、LED、生物芯片等。苏大维格的光刻机技术和产品质量得到了广泛认可，并且在国际市场上也有良好口碑。因此，可以说苏大维格是国内光刻机市场的一匹龙头。
世界光刻胶企业排名？
一、晶瑞电材：
公司作为国内高新技术企业，在微电子化学品的研究开发与生产当中一直处于行业领先位置，其核心产品主要包括光刻胶、功能性材料等。
二、新莱应材：
公司的核心产品均能应用于光刻胶设备当中，其客户群体当中就含有光刻胶设备制造商。
三、芯源微：
产品包括光刻工序涂胶显影设备和单片式湿法设备。
四、亚威股份：
公司与关联方一同出资打造威迈芯材，对韩国WIMAS已经完成了收购计划，该韩国企业主要从事的是半导体化合物的生产开发与销售。
五、华懋科技：
公司旗下持股公司徐州搏康目前为国内重点量产高端光刻胶的企业，在EUV光刻胶领域当中处于国际水平的上游层次。
六、彤程新材：
公司旗下子公司北京科华微电子作为国内仅有的一家拥有荷兰曝光机的中外合资企业，在高档光刻胶自主研发以及量产能力当中也属于国家高新技术企业。
七、苏大维格：
公司作为领先行业的微纳结构生产供应商，已经实现自主研发出光刻机设备，并成立了微纳光学的研发平台，在各类型的产品中为客户提供不同的设计与服务。
八、芯碁微装：
公司专业从事以微纳直写光刻为技术核心的直接成像设备及直写光刻设备的研发、制造、销售以及相应的维保服务。
九、南大光电：
公司主要核心产品为ArF光刻胶产品，不仅得到了客户的使用认证，还是国内第一只通过验证的国产ArF光刻胶产品。
元器件概念股有哪些
长盈精密(300115)：业绩持续高增长长盈精密专业从事电子信息产业精密电子零组件的研发和生产，属于电子元器件制造行业的高端。三安光电――以强“芯”带动LED照明产业的发展三安光电作为本地LED行业的传统龙头企业，其芯片产能居全国第一，且垂直整合优势明显。
苏州苏大维格光电科技股份有限公司在哪
苏州工业园区钟南街北478号公司公交线路：公交148路、108路至“钟南街北”站下车，沿钟南街往北走到底。
我想研发光刻机，大学学什么专业？
光刻机属于一个各学科集成的产品，泛泛而言，设计到光学、机械加工、电子电路、化学等多个学科知识
苏大维格生产几纳米的光刻机？
苏大维格生产的是7纳米光刻机。这种光刻机可以实现在芯片制造过程中细微结构的精确制作，从而实现更高的芯片密度和性能。7纳米光刻机是目前市面上最先进的光刻机之一，可以应用于各种领域，包括电子、通信、医疗等。苏大维格作为高科技企业，一直致力于研究和开发先进的芯片制造技术，为客户提供高质量、高效率的解决方案，推动数字化和智能化进程。